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 實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用高速納米研磨機(jī)
關(guān)鍵詞:高速納米研磨機(jī)  專(zhuān)用高速納米研磨機(jī)  小試型研磨機(jī)  中式型研磨機(jī)
產(chǎn)品名稱(chēng): 實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用高速納米研磨機(jī)
產(chǎn)品編號(hào): CMSD2000-4
產(chǎn)品商標(biāo):
產(chǎn)品規(guī)格: 1-1-1
參考價(jià)格: 面議
更新日期: 2025/8/26 9:31:30
被閱次數(shù): 5087次
 

公司名稱(chēng):上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
會(huì)員級(jí)別:免費(fèi)會(huì)員

詳細(xì)說(shuō)明  

實(shí)驗(yàn)室高速納米研磨機(jī),小型實(shí)驗(yàn)室研磨機(jī),科研用納米研磨機(jī),多功能研磨機(jī),高效研磨機(jī),小體積可控溫研磨機(jī),變頻調(diào)速科研研磨機(jī)


采用研磨機(jī)制備細(xì)微化混懸液/助劑/藥液等,需要研究不同的研磨工藝參數(shù)對(duì)顆粒粒徑或分散液穩(wěn)定性的影響。實(shí)驗(yàn)室在進(jìn)行基礎(chǔ)性研究工作時(shí),需要有一套適合實(shí)驗(yàn)室使用的設(shè)備進(jìn)行理論或規(guī)律研究。然而,采用大型設(shè)備或小型砂磨機(jī)都不適合研究工作,有諸多弊端,比如購(gòu)置設(shè)備的成本高,通用性差,浪費(fèi)材料,從而限制了對(duì)各種參數(shù)的規(guī)律探索。


依肯的研磨設(shè)備在轉(zhuǎn)速和剪切速度上遠(yuǎn)高出同lei研磨機(jī)4-5倍,作用效果更加顯zhu;設(shè)備材質(zhì)上采用316L環(huán)保合金材質(zhì),符合食品醫(yī)藥衛(wèi)生GMP機(jī)FDA生產(chǎn)要求;內(nèi)部suo有配件均耐得住設(shè)備的高運(yùn)轉(zhuǎn),使用壽命長(zhǎng)久;采用變頻調(diào)速,可靈活應(yīng)用于研究制備新產(chǎn)品及放大生產(chǎn);依肯設(shè)備可以保證小試實(shí)驗(yàn)的結(jié)果在同等參數(shù)、環(huán)境下放大到中試及工業(yè)化中的效果是一樣的,只需線性放大物料參數(shù)即可。


 

(小型實(shí)驗(yàn)室研發(fā)制研磨機(jī) 電機(jī)處用防護(hù)罩加蓋,以防灰塵及其他物品掉入電機(jī),影響設(shè)備使用及保障制藥衛(wèi)生;機(jī)身采用316L環(huán)保合金,設(shè)備可通液體介質(zhì)(水、油、液相介質(zhì)等)加熱或冷卻;高經(jīng)度的設(shè)備內(nèi)表面光潔度,保障制藥衛(wèi)生,適用于GMP車(chē)間,復(fù)合FDA要求。)

 

(中試型真空剪切啞膜機(jī),適用于中試生產(chǎn),無(wú)jun,無(wú)殘留,內(nèi)置高速刮邊攪拌機(jī),可采用間歇式/連續(xù)式生產(chǎn)方式,生產(chǎn)過(guò)程中溫度可控,設(shè)備效率快,效果好,靈活性高,可根據(jù)需求改裝成膠體磨、乳化機(jī)、分散機(jī)、混合機(jī)等)



實(shí)驗(yàn)室高速納米研磨機(jī)由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱(chēng)為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱(chēng)為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),同時(shí),可將電機(jī)能量更有效地轉(zhuǎn)化為尺寸減小力,從而在粉末研磨和精細(xì)化學(xué)粉碎方面ling先于其他同行業(yè)設(shè)備。被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

 

IKN研磨分散機(jī)可在制藥,食品和精細(xì)化工行業(yè)中實(shí)現(xiàn)均勻的粒度分布和解聚集分散,幫助能夠減少或規(guī)避資本支出,同時(shí)提供改進(jìn)的成品。IKN研磨分散機(jī)采用了二級(jí)處理結(jié)構(gòu),第yi級(jí)采用了高剪切研磨分散機(jī)的磨頭模塊,第二級(jí)采用了高剪切分散乳化機(jī)的分散乳化模塊。第二級(jí)模塊可根據(jù)客戶對(duì)物料的處理要求開(kāi)配定轉(zhuǎn)子,定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF,(2P剪切力zui弱,為粗齒,8SF剪切力zui強(qiáng),為超細(xì)齒)且定轉(zhuǎn)子經(jīng)密度都達(dá)到了guo際領(lǐng)xian水平。IKN研磨分散機(jī)已通過(guò)數(shù)千種應(yīng)用進(jìn)行了改進(jìn),可提供可靠的可擴(kuò)展性,可重復(fù)性和性能。我們zui新的設(shè)計(jì)融合了許多創(chuàng)新,提供更多應(yīng)用多功能性,更易于清潔和維護(hù)。

球磨機(jī)/砂磨機(jī):鋯珠易損,引入雜質(zhì),更換維修成本高;

國(guó)內(nèi)膠體磨/研磨機(jī)/分散機(jī):轉(zhuǎn)速普遍2930rpm,不超過(guò)3000rpm,作用力弱,粉碎研磨細(xì)度不夠,漿料穩(wěn)定性差;

德國(guó)IKN研磨分散機(jī)(改進(jìn)型膠體磨/改進(jìn)型分散機(jī)):轉(zhuǎn)速范圍9000rpm-14000rpm-21000rpm,剪切力,研磨力,分散力更強(qiáng),粒徑更小,分布范圍更窄,漿料穩(wěn)定性更好。產(chǎn)生均勻的尺寸減小率并產(chǎn)生窄的,一致的和可重復(fù)的粒度分布。


CMSD 2000系列分散均質(zhì)型研磨機(jī)設(shè)備選型表

型號(hào)

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm


線速度

m/s


功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000


41


4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500


41


11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200


41


22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900


41


45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850


41


90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100


41


160

DN200/DN150

 

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%



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公 司 名: 上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
企業(yè)類(lèi)型: 私營(yíng)企業(yè)
經(jīng)營(yíng)模式: 生產(chǎn)型
公司地址: 上海市松江區(qū)九新公路865號(hào)
聯(lián) 系 人: 周子葉  女士  銷(xiāo)售經(jīng)理
聯(lián)系電話: +8617717517178
傳    真: 
手    機(jī): 17717517178
郵    編: 201612
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