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混懸液研磨分散均質(zhì)乳化設(shè)備介紹技術(shù)參數(shù)

混懸液研磨分散均質(zhì)乳化設(shè)備介紹使用說明

分散性是指活性組分粒子懸浮于分散介質(zhì)中保持分散成微粒個(gè)體粒子的能力。分散性與懸浮性有密切關(guān)系。分散性好，一般懸浮性就好

影響分散性的主要因素是活性組分和分散劑的種類和用量

–   活性組分粒子有足夠的細(xì)度，活性組分粒子越大，越易加速沉降，破壞分散性

–   活性組分粒子越小，粒子表面的自由能就越大，越易受范德華引力的作用，相互吸引發(fā)生團(tuán)聚現(xiàn)象而加速沉降，因而也降低了懸浮性

–   要提高活性組分粒子在懸浮液中的分散性，除了要保證足夠的細(xì)度外，重要的是克服團(tuán)聚現(xiàn)象，主要辦法是加入分散劑以及使用高轉(zhuǎn)速的分散設(shè)備。 

 

醫(yī)藥混懸液（如阿莫西林混懸液、鋁鎂加混懸液等）可制備至1-10微米粒度；疫苗可至300nm以下；注射劑可過9號針頭   該設(shè)備廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥、新材料、化工、食品領(lǐng)域，詳詢上海依肯 工程師

膠體磨

膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

 

膠體磨的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機(jī)，但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。

       CM2000系列膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。     依肯公司另外一項(xiàng)獨(dú)特的創(chuàng)新，就是錐體磨CMO2000系列，它的設(shè)計(jì)使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步。由于這項(xiàng)創(chuàng)新，CMO2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調(diào)節(jié)，從而可以得到*的研磨參數(shù)。

      研磨頭的表面涂上了一層極其堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個(gè)具有強(qiáng)烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和*后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。

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