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| 膏狀藥劑高剪切膠體磨 |
| 關(guān)鍵詞:膏狀藥劑高剪切膠體磨 醫(yī)藥級研磨分散機 高剪切研磨分散機 納米級膠體磨 |
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公司名稱:上海依肯機械設(shè)備有限公司 |
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詳細說明 |
研磨乳化機使用說明: IKN膠體磨由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果 目前市場上大多數(shù)的濕法粉碎機廠家生產(chǎn)出來的濕法粉碎機轉(zhuǎn)速只能達到3000rpm左右,當(dāng)然我所說的濕法粉碎機機的結(jié)構(gòu)大都都是直連電機或者分體式 ,粉碎機的主軸和電機直連,電機就決定了主軸的轉(zhuǎn)速。 IKN分體式濕法粉碎機機通過皮帶傳送,可實現(xiàn)2到3倍的加速,同時立式直立的轉(zhuǎn)軸,運轉(zhuǎn)穩(wěn)定性大大提高,同時轉(zhuǎn)子動平衡性得到提高,間隙也允許縮小而不產(chǎn)生摩擦。因此立式濕法粉碎機機有XX的乳化分散粉碎效果。根據(jù)其定轉(zhuǎn)子剪切的原理,還可以實現(xiàn)固體物料在液體介質(zhì)中的粉碎,超細物料的均勻分散,以及加速大分子物質(zhì)的溶解。經(jīng)過特別設(shè)計的高剪切膠體磨 也可以成為反應(yīng)發(fā)生的場所,比如兩種液體物料反應(yīng)生成固體顆粒,通過分別通入腔體,兩種物料接觸時被剪切成微滴,均勻混合后反應(yīng)生成的粒子大小均勻,并且粒徑很小。
影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點: 1 膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好) 2 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好) 3 物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好) 4 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好) 線速度的計算 剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 由上可知,剪切速率取決于以下因素: 轉(zhuǎn)子的線速率 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60 設(shè)備的選型要點: 1、明確使用設(shè)備所需達到的效果和目的 2、詳細了解并掌握研究物料的性質(zhì)(包括物理、化學(xué)性質(zhì)) 3、根據(jù)物料對設(shè)備的攪拌機進行選型 4、再次確定設(shè)備的操作參數(shù)及結(jié)構(gòu)設(shè)計 5、綜合考慮設(shè)備的成本
研磨分散機采購須知: 超高速粉碎機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。 濕磨機濕磨是干磨的一種安全而高效的替代方案,基于轉(zhuǎn)子-定子原理。 用轉(zhuǎn)子-定子置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處: 1 研磨得到的細顆粒被直接融 合到懸浮液中,因而從開始就避免了灰塵的形成。 2 與干磨系統(tǒng)不同,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi),從而大幅減少了損失。因此,濕磨非常適合有機化學(xué)品,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì),或者有毒物質(zhì)的研磨。 3相對干磨過程而言,濕磨的產(chǎn)品進料和計量較容易。 研磨分散機機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。 CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。 2 處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。 3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。 膏狀藥劑高剪切膠體磨, 膏狀藥劑膠體磨 納米級膠體磨 醫(yī)藥級研磨分散機 高剪切研磨分散機 藥膏膠體磨 |
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